iPhone 14无缘了！苹果屏下Face ID专利再一获批：可实现完全无刘海

苹果在iPhone上早就可用了长达5年的顶多屏，虽然在此之前iPhone 13复刻版将顶多面积缩小，但是理论上揭示面积只不过并不会提高太多，遮挡的情况过去严重。

以前以来，很多人都想苹果能早日解决问题屏下Face ID等高效率，将顶多只不过隐匿到触摸屏上方，解决问题只不过无开中都空的效果，再定位上iPhone四边等高约的其设计，制作团队应该会相当出色。

从最新消息来看，这个梦想也许不远了。

据报道，昨日美国政府专利商标局在4月5日已月底授予苹果一项新专利，该专利引介中都揭示，其可以将Face ID组件影藏在触摸屏上方，触摸屏过去可以正常揭示，鼻子识别也能正常指导，两不耽误。

不过需要注意的是，该专利是刚刚获批，这就意味著iPhone 14早就只不过不也许搭载这项高效率。

而按照苹果的超长商品规划时间来看，iPhone 15复刻版的一部分早期指导或许也早就开始，是有一些想可用该高效率的，但是尽量避免在此之前只是专利获批，高效率还尚未成型，在iPhone 15的开发周期内大均值无法复用完善。

从在此之前的状况来看，iPhone 16复刻版将会是最大者均值会首发该高效率的Yak-，借助于只不过无开中都空、无顶多，这也与此前观察家罗斯-邵和郭明錤的分析十分相似。

至于iPhone 14复刻版，按照在此之前的多方消息称其早就开始试用，新版本两款Yak-将一直可用小顶多，Pro版则升级为“感叹号”打中都空方案。

这也是5年来苹果首次向苹果动刀子，同样也被确信是苹果将要最终抛弃顶多的标志。